二次电子发射理论及应用 azw3 chm 地址 kindle 阿里云 下载 umd pdf

"本书的内容主要聚焦于二次电子发射的理论模型和相关应用方面，在部分章节列举了几个典型案例展开讨论。本书的内容涵盖了二次电子的发射理论模型、测量、数据结果、表面工艺、介质带电分析以及典型应用场景介绍。内容涉及粒子物理理论、仿真算法、磁流体力学、表面工艺、表面表征等多领域。

本书共分为六章，其中， 章为绪论，介绍了二次电子发射和与此相关的介质带电概念和现状。第二章中主要介绍了四种主要的二次电子发射模型，以及分别针对导电金属和导电不良体的介质研制的测试平台，除此之外，还列出了部分典型金属和介质材料的二次电子发射数据。本书的第三部分介绍了常用的二次电子发射表面调控技术，列举了几种用于抑制二次电子发射的表面陷阱结构和用于表面调控的材料工艺。第四部分介绍了电子轰击表面的带电效应和二次电子发射在带电状态下的动态特性。第五部分简要叙述了电子轰击对材料的影响。第六部分讲述了二次电子发射在微波部件微放电和电子显微成像领域的应用，并展开了一些分析。

本书面向物理学、物理电子学和计算物理学等专业的本科生或研究生，以及从事等离子体、微波大功率放电和表面微分析等领域的研究人员，除此之外，本书提供了大量的材料基础数据，还可为相关工程设计领域的工程师提供参考和借鉴。

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第1章 绪论

1.1 基本概念

1.2 应用背景

1.3 研究现状

1.3.1 二次电子发射特性约研究

1.3.2 介质材料的带电特性研究

1.3.3 二次电子动态发射

第2章 二次电子发射理论模型及测量

2.1 二次电子发射数值理论模型

2.1.1 Vaughan模型

2.1.2 Furman模型

2.1.3 Monte Carlo数值模型

2.1.4 半物理模型

2.2 二次电子发射的测量

2.2.1 金属材料的二次电子发射测量

2.2.2 介质材料的二次电子发射测量

2.3 典型材料二次电子产额测量结果

2.3.1 常见金属材料的二次电子发射产额及能谱测量数据

2.3.2 常见介质材料的二次电子发射产额测量数据

第3章 二次电子发射表面调控技术

3.1 表面微结构抑制二次电子发射

3.1.1 表面构型抑制二次电子的基本原理

3.1.2 样品表面规则槽结构

3.1.3 收拢式表面陷阱结构

3.1.4 二维嵌套式陷阱结构抑制二次电子发射

3.1.5 抑制二次电子的表面构型技术工艺

3.2 表面镀膜调控二次电子发射

3.2.1 表面镀膜技术调控SEY的原理

3.2.2 表面镀膜技术抑制SEY

3.2.3 表面镀膜技术增强SEY

3.2.4 其他技术

3.2.5 表面镀膜技术与表面构型技术的结合

第4章 介质材料的带电及二次电子动态发射

4.1 电子照射介质材料带电特性

4.1.1 电荷输运理论及模型

4.1.2 充电动态模拟流程

4.1.3 电子辐照介质带电分布特性

4.2 介质带电下的二次电子发射动态特性

4.2.1 带电平衡数值模型

4.2.2 样品参数对平衡模式的影响

第5章 电子轰击对介质材料的影响

5.1 电子辐照带电效应下的微波介电特性

5.1.1 多能量电子束辐照

5.1.2 带电效应影响介电常数

5.1.3 对DRA的影响

5.2 电子轰击对材料表面的影响

5.2.1 放电所需的电子辐照量测试

5.2.2 表面放电电位数值模拟

5.2.3 电子轰击下的表面释气

5.2.4 表面化学键与表面形貌

封国宝，工学博士， 工程师，2016年毕业于西安交通大学电子科学与技术专业，现任职于中国空间技术研究院西安分院。长期从事空间微波环境下粒子理论仿真和微波部件辐照效应研究。主持 自然科学基金项目、中央 科技委基础加强重点项目子课题、总装预研重点实验室基金课题、中国博士后科学基金项目、陕西省博士后科学基金项目等多项 及省部级课题。获中国空间技术研究院“杰出青年”人才计划支持；获陕西省技术发明二等奖、陕西省电子学会一等奖各1项；发表学术论文20余篇，授权和受理专利10余项。

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